遠赤外線アニール炉
高分子材料加熱で多くの実績を持つ遠赤外線ヒーターと、永年の研究開発から生まれた独自の照射機構によって最も効率の良いアニール処理ができます。
ア二ールと遠赤外線
プラスチックの成形品は、材料自体の分子が赤外線を吸収する特性を持っております。吸収特性は短い波長の近赤外線領域の一部（≒3.5～4μ）と、ほとんど遠赤外線領域(≒5.5～15μ)の長い波長領域に集中しています。遠赤外線アニール方式は、この領域のピーク波長を選択照射して成形品自体の分子運動（振動、振幅）を活発にします。
特徴
- 従来のバッチ処理の約1/5～1/40の短時間処理
- コンベアー方式により均一な照射が可能
- 品質の安定・歩留まりの向上が可能
主な用途
- 接着剤の硬化
- 抵抗、導電体ペーストの乾燥
- ITOフィルムのアニール
- プリンタブルエレクトロニクス
- 印刷・乾燥（代表例）
- Aｇのキュア、カーボン、レジスト硬化
- エポキシなど樹脂系接着剤の乾燥硬化
- バインダー除去による硬化
- フェライトなど
資料
実際に遠赤外線アニール炉を使用してプラスチック部品のアニール処理を行い、クラック発生の有無を検証した動画です。 試薬評価した結果、アニール処理しないプラスチック部品には多数のクラックが認められましたが、アニール処理したプラスチック部品はクラックが認められませんでした。
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